近期我司抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机 抗黏剂气相沉积系统再次进入科研系统。

    科研系统主要研究领域及学科方向包括光电跟踪测量、光束控制、自适应光学、天文目标光电观测与识别、光学制造、航空航天光电设备、微纳光学及微电子光学、生物医学光学等。建有微细加工光学技术国家重点实验室、光束控制重点实验室、自适应光学重点实验室、空间光电精密测量技术重点实验室，和光电工程总体研究室等10个创新研究室，以及中科院成都几何量及光电精密机械测试实验室；还建有精密机械制造、光学研制、轻量化镜坯研制、光学工程总体集成、质量检测等5个研制中心，以及科技信息中心等技术保障中心。目前承担有国家重点研发计划、自然科学基金、部委重大重点项目及企业委托开发项目研究，研究水平居或。

抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机  抗黏剂气相沉积系统

    （HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三滤硅烷等）作为一类重要的有机硅化合物，在材料表面改性、复合材料增强、涂层制备等众多领域有着广泛应用。

应用领域： 半导体：晶圆光刻前疏水性处理、掩膜板疏水性处理、LED芯片工艺、蓝宝石、贵金属、硅片、磷化铟lnP、砷化镓GaAs、铌酸锂LiNbO₃、硫化锌ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、蓝宝石、晶圆、碳化硅等第三代、第四代半导体材料等。平板显示器：用于大规模生产高性能显示面板。 太阳能电池：提高薄膜太阳能电池的生产效率和性能。航空航天新材料：陶瓷纤维板材疏水性处理。手机平板：抗指纹、防水处理等。纳米压印：纳米压印脱模阶段。

抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机  气相沉积系统性能

内部容积： 20-5000L

材质： 外箱冷轧板烤漆或优质SUS#304不锈钢，内腔采用316L不锈钢

控制方式：人机界面+PLC

温度范围 ：RT-450℃

波动度 ：≤±0.5

真空度： ≤1torr

电源及总功率 ：220V/380V   

真空泵 ：无油泵

半导体设备厂商上海隽思仪器，硅烷气相沉积设备、精密热板、HMDS预处理系统烘箱、智能型HMDS真空预处理系统烘箱、MSD超低湿烘箱、无尘烘箱、洁净烘箱，氮气烘箱、无氧烘箱、无尘无氧烘箱、真空烘箱、真空储存柜、超低温试验箱、超低湿试验箱等环境可靠性设备。