亚新ty官网_亚新（中国）

您所在的位置：亚新ty官网>技术亚新（中国）>亚新ty官网

欢迎联系我

有什么可以帮您？在线咨询

PI无氧烘箱工艺流程

来源：上海隽思实验仪器有限公司 2025年08月21日 09:34 24

PI光刻胶是一种高性能、高精度的光刻胶，被广泛应用于微电子、光电子、MEMS等领域

PI无氧烘箱工艺的必要性：

PI光刻胶的预烘是将其涂覆在衬底上后，在特定温度下进行一段时间的烘千，使PI溶液中的溶剂挥发掉，PI形成一定的网状结构并增强其附着性。

PI无氧烘箱工艺要求（参考）：

在低氧状态下使用
真空加热，升温至1xx℃
再温至1xx℃(约xh),保温约 30min;
继续升温至x00℃，视涂层厚度不同加热10-x0min
保温约60min；
降温至100℃以下

PI无氧烘箱性能：

温度：室温+50～400℃

氧浓度：≤10ppm

真空度：1Torr

冷却装置：辅助降温

控制方式：可程式运行

上一篇：鱼粉粉末防尘智能定量包装机10-50公斤

下一篇：真空脱泡搅拌机：提升实验室材料研究的效率和精度

版权与免责声明： 凡本网注明“来源：亚新ty官网”的所有作品，均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-亚新ty官网合法拥有版权或有权使用的作品，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的，应在授权范围内使用，并注明“来源：亚新ty官网www.guidetodreams.com”。违反上述声明者，本网将追究其相关法律责任。

本网转载并注明自其它来源（非亚新ty官网www.guidetodreams.com）的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或和对其真实性负责，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品第一来源，并自负版权等法律责任。

上海隽思实验仪器有限公司

进入展台在线留言