镀膜仪当接通高压，阴极发射电子，电子能量增加到1-3kev，轰击低真空中（3-10pA)的气体，使其电离，激发出的电子在电场中被加速，继续轰击气体，产生联级电离，形成等离子体。离子以1-3kev的能量轰击阴极靶，当其能量高于靶材原子的结合能时，靶材原子或者原子簇，脱离靶材，又经过与等离子体中的残余气体碰撞，因此方向各异，当落在样品表面时，可以在粗糙的样品表面形成厚度均一的金属薄膜，而且与样品的结合强度高。如果工作室中的气体持续流动，保持恒定压力，这时的离子流保持恒定。高压的功率决定了大离子流，一般有大离子流限制，用于保护高压电源。

　　镀膜仪的一般故障处理：

　　1.使用一段时间后溅射电流变小

　　处理：对靶材有无变色、破裂和油污等现进行检查。前两者对靶材进行更换，后者被油蒸汽污染，通过无水乙醇进行清洁，等干了后才能够抽真空。

　　2.使用一段时间后有过低的真空

　　处理：对溅射室中或管道内是否有油进行检查，能够使用汽油进行清洗。

　　3.溅射电流忽高忽低

　　处理：阴极罩与靶的固定环有着过近的距离，将阴极罩逆时针旋转，对间距进行调整。

　　4.有着过低的真空

　　处理：将放气阀、漏气阀和观察泵的油窗液面旋紧。