HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用为:增强光刻胶和衬底表面的粘附力。

光刻工艺中涂胶显影流程包括HMDS（六甲基二硅氮烷，增粘剂）预处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜。

HMDS预处理作用:

增强光刻胶和衬底表面的粘附力;

实现方法:浸泡、涂覆、气相处理（即HMDS烘箱）等。

HMDS预处理烘箱

   JS-hmds90烘箱采用气相沉积的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后排出尾气，烘箱内部充入N2，达到常压后方可开门。

温度范围：RT+10-250℃

真空度：≤1torr

控制仪表：人机界面，一键运行

储液瓶：HMDS储液量1000ml 

真空泵：无油涡旋真空泵

数据处理：多个工艺方案，可修改并记录，使用数据可记录

保护装置： 低液位报警，HMDS药液泄漏报&警，超温保护并断开加热，超温保护，漏电保护，过热保护等

涂胶

作用:a.转移掩模版图形到衬底的介质b刻蚀工艺中保护衬底;实现方法:浸泡、旋转、喷雾、刷胶等:

前烘

b.蒸发溶剂;作用:a.增强粘附性实现方法:真空热板85~120C处理。

曝光

作用:将掩模版图形转移到衬底表面;实现方法:接触式、接近式、投影式。

后烘

作用:a.减少驻波效应

        b.使光刻胶更易溶于显影液:实现方法:热板或烘箱等110-130C处理。

显影作用:去除(未)曝光胶膜,保留图形实现方法:浸泡、旋转浸泡、旋转喷雾

坚膜

作用:a.进一步减少驻波效应 

        b.进一步增强抗刻蚀能力;实现方法:热板或坚膜烘箱等100-130C处理