配有HMDS气体检测的HMDS烘箱

      HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性处理工艺。它是将HMDS（六甲基二硅胺烷）通过气相沉积的方法均匀的涂布在基底表面，使基底表面接触角增大，基底表面由亲水性变为疏水性，就会增强光刻胶的粘附性。避免了显影后光刻胶漂胶、裂胶的不良现象。

但是HMDS具有一定的伤害性，大量吸入会刺激与灼伤鼻子与呼吸道器官系统，会产生头痛、呼吸困难、呼吸急销迟促、咳嗽以及眼睛红肿并感到眼睛来自刺痛与灼伤。所以，在使用过程中的安全性不容忽视。

我司HMDS烘箱的设计原理，使得整个工艺过程都在密闭的回路中完成，并有效排出残余气体，同时具有HMDS实时监测功能，具有泄露报J提示音。

温度范围：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作方式：一键运行 

真空泵：无油涡旋真空泵

容积：40L/90L/210L,可定制

产品兼容性：2~12寸晶圆及碎片、方片等

适用行业：MEMS、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。