HMDS烘箱在太阳能电池片生产中的用途

太阳能电池片光刻蚀刻加工的基本原理：

1. 光敏材料涂覆：首先，在待加工的基底表面涂覆一层光敏感材料（例如光刻胶）。该材料对于特定波长的光会发生化学或物理变化。涂覆的光敏材料形成了一个称为“光刻胶层”的薄膜。

2. 光罩设计和准备

3. 曝光

4. 图案形成

5. 刻蚀。

然而在光敏材料涂覆前需要将电池片基底做疏水性处理，该处理工艺需要借助HMDS增粘剂。一般通过气相沉积的方法将HMDS处理在衬底表面。该设备为上海隽思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能：

温度范围：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作界面：人机界面

工艺编辑：可储存5个配方

气体：N2进气阀，自动控制

容积：定制

产品兼容性：2~12寸晶圆及碎片、方片等

HMDS烘箱适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。