HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱研发背景

       集成电路光刻工艺中常使用HMDS对晶圆衬底进行黏附处理，来提高光刻胶与衬底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷（Si(CH3)3）2NH，行业所要求纯度大于99.7%。

HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱作用

HMDS黏附机  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱实用性

       在光刻中，光刻胶的黏附效果受到光刻涂层，衬底材料，以及光刻工艺三方面的影响。HMDS的黏附处理不只是对硅基衬底有效。也用于其他衬底，诸如多晶硅，石英，太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。

HMDS烘箱兼容2~12寸晶圆及碎片、方片等。